说实话，共事这么多年。
他们从没见过孙荣毅这么嘚瑟。
即使在早些年拿到国家科学奖的时候也没有如此。
而这一切，都是因为那个叫王为的年轻人。
虽然这个名字早已听过不止一次了。
更是给他们留下了深深的难以遗忘的印象。
可他们没有想到，王为…
还能在那之后继续带给他们深深的震撼！
“哎呀，要我说多少遍你才信啊！”
面对郑家骏不可置信的几十连问，孙荣毅显得不太耐烦了。
原因无它，只是当初还在对王为抱着质疑态度的郑家骏。
遇到当初几乎一模一样的事件竟然在自己的身上重现。
此刻却是手足无措了。
“不可能，不可能，就算他有很高的天赋，同时精通这两门学问也需要花费大量的时间…”
“更何况还有连蔡斯都不曾研发出的控制程序，一个人怎么可能完成这样的设计！”
郑家骏现在的表情，简直像是让他戒烟一样难受还有过之而无不及！
而王厚的行为则大相径庭。
相比较质疑，他更愿意去选择相信。
毕竟有之前的例子还在眼前，那抗击病魔的奇迹还未曾消失。
一切皆有可能！
“我只能说，他，是个天才！”
“老孙啊，你可是捡到宝了！”
“不！应该是说，我们龙国，真的出了一条真龙啦！”
…
“呐，刚检测出的数据，以及研究成果的文件全部拷贝进去了。”
孙荣毅没有理会正在一旁陷入黑白画面的郑家骏，而是将一个磁盘递给了戴胜。
“好的，既然如此，我们就走了！”
从进来到离开总共没花费超过五分钟的时间。
他第一次觉得自己的上司指定是脑子被驴踢了。
这么简单的任务李静一个人来不就好了。
非要把自己拉上。
“额…这就走啦？”
“不留下来吃顿饭？我们的食堂的菜肴可是非常可口的哦！”
似乎王厚也感觉了有些麻烦两人。
于是出口挽留道。
“好…好wa…”
李静答应的很爽快。
只是她话里的最后一个“哇”字，还停留在拼音的阶段就被戴胜堵住了。
“不用了，还是这个比较重要！耽误就不好了！”
其实他心里想的是：赶紧任务交差，说不定还能把事态给挽留一些回来。
而且，连身为王厚自己都回家吃饭。
戴胜觉得这只是个客套话而已，龙科所食堂的饭一定不好吃。
然而他不知道的是，自己究竟错过了什么样的“食堂饭”！
…
龙精科顶层，总裁办公室。
刚关上门，李天彦就丝毫没有了高冷的形象。
反而是一把将手中的文件撒向天花板。
其中夹着的几十页纸，像荡秋千一样飘飘然的七零八落散布在四周。
早已察觉到什么，“逃”似的般逃到远一点地方的张青菁笑道。
“申请通过的文件，你就这么对待啊！”
“又不是原件，复印件而已，怕什么？”
极度兴奋的他甚至翩翩起舞了一圈才停止这样尴尬的行为。
没错！
他们的上市申请通过了！
短短两三个小时内，他就在董事会和国家监管局两个恐怖之地过了一遍。
当然，实现这点全靠的是王为授权的专利技术！
有了它，李天彦这才在所有董事的面前神气了一把！
而监管局方面，在收到他的诉求后。
也是很快的就特派人员来办理了。
其实，龙国对于国内光刻机产业一贯是大力扶持的态度。
这点从五年拨款给龙精科七个多亿这方面就能看出来。
他们也希望龙精科能够快速的加入上市公司的行列。
可评估状况实在是不太理想。
虽有心，却无力。
毕竟他们也要对投资者们负责。
而这一次，拥有了如此底蕴的王牌的龙精科。
自然是顺利过关了！
“小菁，通知一下主管部门，加快新的双工作台制造设备和流程进度…”
“另外，要把所有能够用到的，空余的力量都投入进去。然后…”
看到李天彦突然直直的盯着自己，张青菁仿佛意识到什么一样。
手中的动作也停了下来。
“然后，我们就去吃高级的高卢料理，正好我知道很远的地方有一家特别好吃…”
“这是我答应你的！”
…
然而，当这个世界上的所有龙国人几乎都是喜悦的时候。
我们的主角，王为！
却陷入了与第三个任务：10nm光源系统的纠缠中。
事实上，凭借昏迷前的认知。
他一直以为镜头是整个光刻机中最难制造的部分。
而系统之所以将光源放在最后的原因。
多半是由于它需要用到高抛光度的镜头而已。
可随着相关所有知识一股脑的涌入。
王为才知道，这也相当的不简单呐！
难怪阿麦斯的最新一代euv光刻机，即使20亿一台，都供不应求。
每一部分所需要的零部件都代表着世界上最顶级的技术，极难生产出来！
量产更是遥遥无期！
年产量最多不超过60台的它，简直要比那些限量版跑车还要抢手！
要知道，高能光源是实现大规模量产并降低成本的前提和保障。
而且，由于要同时满足euv光刻胶对分辨率和线宽粗糙度的需求，光源的功率需要不断提高。
功率＞115w的光源可以确保涂有敏感度为5mj/cm2光刻胶的硅片的产能＞100片/h，而对于敏感度达到10mj/cm2的光刻胶就需要180w的光源而敏感度高于20mj/cm2的光刻胶甚至需要200w以上的光源以满足量产需求。
由此可知，为了满足未来euv光刻技术的发展需要，其光源结构也必须能够支持升级换代。
目前euv曝光光刻设备使用的是两种光源。
一种叫dpp，是低功率辉光放电等离子体光源，另一种就是lpp，也就是激光等离子体光源。
前者不能够满足大规模量产的需求，而后者由于其具备高功率输出的优势最有希望担负起euv光刻技术量产的大任。
进而继193nm浸没式光刻技术后成为ics制造领域的主流光刻技术。
euv光源要能够达到实用，在照明系统的入口处，在波长为13.5nm带宽为2％的范围内，需要115w的euv输出功率。
但系统所发布可是极紫外线波长为10nm的光源系统。
毕竟，波长越短，能量就越大。
这是一个常识！
无疑，这可以进一步提高输出功率从而提高输入功率。
最后得到高转换效率的实现。
不过相应的，也就增加了王为研究的难度。
这让他禁不住自顾叹气道。
“唉，难难难，任务之难…”
“还是没睡一觉难！”